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磨液使用在前,抛光液使用在后。简单讲,研磨液就是在平面研磨机上做道粗磨和第二道精磨时使用的液体,而抛光液是在第三道或者第二道精细抛光中才使用的。两者使用时间和工序不一样。三成分上的不一样,是两者比较大的区别。它们之间的区别有以下几

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可以进行粗磨和细磨,视半导体材质而定。适用作为Inp、GaAs半导体的研磨液。3.氧化铝研磨液的劣势在于:分散稳定性不好、易团聚、易沉淀。4.不使用金刚石、蓝宝石研磨液的原因:金刚石磨料是研磨硬质合金、陶瓷、宝石、光学玻璃等高硬度

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研磨抛光液是用防锈、粗磨、清洗和增光性能的一种水溶性助剂,通常可以分为研磨液和抛光液,抛光液通常用于研磨液的下道工序,行业中也把抛光液称为研磨液或把研磨液称为抛光液的。由于研磨抛光液能使金属制品超过原有的光泽,增添表面美感,因而被

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抛光液与研磨液都是平面研磨设备上经常会用到的一种消耗品。它们在平面研磨机上作用的原理相同,但是所达到的效果却大有不同。这是由于这两种液体在使用上和本身成分上都存在一定差异。两种液体在使用上存在一些区别:一.研磨液是用来研磨,抛光液

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磨削和研磨等磨料处理是生产半导体芯片的必要方式,然而研磨会导致芯片表面的完整性变差。因此,抛光的一致性、均匀性和表面粗糙度对生产芯片来说是十分重要的。研磨与抛光的区别研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒,通过研具与工件在一定压力下

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